光刻与刻蚀工艺流程

光刻胶的组成。? ? ? ? ?。Jincheng Zhang。光刻概述 Photolithography。把设计图形最终转移到硅片上。? ? ? ?。IC制造中最重要的工艺。?。决定着芯片的最小特征尺寸。Jincheng Zhang。光刻需要。? ? ?。高分辨率 High Resolution。Jincheng Zhang。Photoresist(PR)－光刻胶。临时性地涂覆在硅片表面 通过曝光转移设计图形到光刻胶上 类似于照相机胶片上涂覆的光敏材料。? ? ? ?。Jincheng Zhang。Photoresist。..